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基本參數(shù)法(FP)
一、意義
X射線熒光分析技術(shù)具有快速、無損、簡便、精密度高、元素范圍寬等優(yōu)點,XRF應(yīng)用范圍和場景越來越廣泛,倍受分析工作者關(guān)注的元素分析方法。XRF定量分析有經(jīng)驗系數(shù)法、理論影響系數(shù)法以及各種用于校正的數(shù)學(xué)模型,這些算法在某些特定范圍(樣品種類與元素范圍以及標(biāo)樣)內(nèi)滿足元素定量準(zhǔn)確度的要求。
但隨著工業(yè)發(fā)展以及XRF應(yīng)用范圍的擴展,具備更廣泛應(yīng)用和分析精度的算法是該領(lǐng)域關(guān)注和研究的方向,其重點是基本參數(shù)法的研究和應(yīng)用。自X射線發(fā)現(xiàn)到X射線熒光技術(shù)的發(fā)展,其所揭示的物理現(xiàn)象均有物理學(xué)理論基礎(chǔ),同時隨著計算機技術(shù)和軟件技術(shù)的發(fā)展,為基本參數(shù)法的研究和實現(xiàn)提供了助力。
二、計算原理
基本參數(shù)法將X射線熒光從產(chǎn)生到探測整個物理學(xué)過程,根據(jù)已經(jīng)掌握的數(shù)據(jù)庫和物理理論建立數(shù)學(xué)模型,并進行大量計算,將計算譜與實測譜不斷迭代擬合,得到元素定量分析結(jié)果。因此基本參數(shù)法大大減少對標(biāo)準(zhǔn)樣品的依賴,其目標(biāo)是進行無標(biāo)定量分析。
通常基本參數(shù)法需要計算X射線入射譜強度和分布、元素理論熒光強度等一系列參數(shù)。
(1
)X
射線光管發(fā)射譜分布
XRF通常采用X射線管做為激發(fā)源,X射線管出射譜分為韌致輻射產(chǎn)生的連續(xù)譜和靶材特征譜。
圖1 X射線管出射譜示意圖
通常情況下X射線光管發(fā)射譜分布
I
λ
函數(shù)一般采用連續(xù)譜分布和特征譜分布分別計算,然后進行疊加。連續(xù)譜的計算公式如下:
式中:
W
Be
為
Be
窗吸收限校正,
t
Be
為
X
射線光管鈹窗厚度,
λ
為光子波長,
λ
0
為短波限,
f
為參數(shù),通過實驗數(shù)據(jù)進行曲線擬合可獲得
ξ
和
C
。
特征譜的計算公式:
(2)理論熒光強度
對于一厚度為
h
的平滑、均勻試樣
s
,設(shè)熒光元素
i
,相對濃度為
C
j
,
入射原級光譜分布為
I
λ
,ui,λ
元素對入射光
λ
,
的質(zhì)量衰減系數(shù),入射角和出射角分別為
α
和
β
,
見圖3,以
K
α
線為例,吸收躍遷因子
j
k
,熒光產(chǎn)額
ω
K
和譜線相對強度份數(shù)
f
Kα,ui,λ
是試樣s對波長
λ
的入射光的衰減系數(shù),出射X射線熒光
λ
i
的衰減系數(shù),
ρ
為試樣密度。準(zhǔn)直器立體角
Ω。
樣品A中某元素?zé)晒馍渚€除了入射射線激發(fā)產(chǎn)生之外,還有其它元素?zé)晒馍渚€激發(fā)(高于元素吸收邊)而產(chǎn)生二次熒光射線,假定在樣品
A
中存在一定含量的
Ni
和
Fe
,
Ni
的熒光射線進一步激發(fā)了
Fe
的熒光射線,
Fe
被激發(fā)增強而
Ni
被吸收減弱,這就是所謂的吸收
-
增強效應(yīng),如下圖4所示。
圖
4 原級熒光、二次熒光產(chǎn)生物理和幾何示意過程
二次熒光公式的推導(dǎo)過程中幾何因子的計算較為復(fù)雜,下面給出對于無限厚樣品試樣,二次熒光強度的計算公式為:
毫無疑問,基本參數(shù)法計算了元素之間吸收增強效應(yīng)以及基體吸收效應(yīng),其至少解決了XRF對標(biāo)準(zhǔn)樣品的嚴(yán)重依賴,隨著基本參數(shù)法完整性與計算精度的提升,其對樣品的適應(yīng)性與定量精度也將大幅提升。
三、發(fā)展史
1954年,著名的Sherman方程,在有限濃度范圍內(nèi)對二元和三元體系進行共存元素間的基體效應(yīng)校正。
1968年,Criss和Birks提出了基本參數(shù)法(FP:Fundamental Parameters),至20世紀(jì)80年代中期,已有NRLXRF和NBSGSC等軟件問世,標(biāo)志著基本參數(shù)法的商用化出現(xiàn)。
直至今天,基本參數(shù)法的研究一直是XRF領(lǐng)域的重點。尤其值得提出的是,2019年安科慧生頒布的全息基本參數(shù)法(
Holospec FP 2.0
)是國內(nèi)成功商品化的基本參數(shù)法軟件,并在功能與性能方面表現(xiàn)優(yōu)異。
四、前瞻
Holospec FP
®
基本參數(shù)法(FP)是X射線熒光光譜領(lǐng)域的一項前沿技術(shù),基本參數(shù)法的發(fā)展為X射線熒光元素定量分析提供無限空間,這項技術(shù)是國際XRF廠商和科研機構(gòu)爭相研究的領(lǐng)域。
安科慧生從事XRF算法研究十幾年,從如下方面進行了FP的研究和啟示:
(1
)完整性
基本參數(shù)法僅有已知公式的理論計算尚不足,在X射線熒光光譜整個物理學(xué)過程中,比如探測器效應(yīng)、背景扣除算法等很多方面,同樣需要建立數(shù)學(xué)模型進行理論計算。
(2
)軟件技術(shù)
龐大的數(shù)學(xué)運算消耗計算機CPU大量資源,甚至計算時間遠超探測器采集時間,使得程序執(zhí)行困難,因此先進的軟件開發(fā)技術(shù)是基本參數(shù)法開發(fā)的前提條件。
(3
)算法精度
基本參數(shù)法的目標(biāo)是實現(xiàn)XRF無標(biāo)定量分析,算法的精度取決于數(shù)學(xué)模型的完整性與先進性,也取決于XRF本身硬件的性能。
(4
)大數(shù)據(jù)與人工智能
具有機器學(xué)習(xí)的基本參數(shù)法已被提出,針對一系列標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)進行算法學(xué)習(xí),隨著人工智能領(lǐng)域的進展,將會提升基本參數(shù)法的自適應(yīng)能力和算法精度。
(5
)蒙特卡羅
使用蒙特卡羅進行X射線熒光產(chǎn)生過程的模擬,已有多篇論文發(fā)表,蒙特卡羅使用隨機數(shù),遵循X射線熒光物理學(xué)原理,進行X射線熒光產(chǎn)生過程的模擬和仿真,是基本參數(shù)法和數(shù)學(xué)模型的補充與驗證,同時也為XRF硬件性能的預(yù)研提供可行性。
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